ASML (empresa)
ASML Holding é uma empresa multinacional holandesa e o maior fornecedor de sistemas de litografia para a indústria de semicondutores. A empresa fabrica máquinas para a produção de circuitos integrados, tais como RAM, chips de memória flash e CPU.
Antecedentes
A ASML tem suas origens na década de 1970 e na empresa holandesa de eletrônica Philips. A empresa, tendo observado que a indústria eletrônica em geral estava enfrentando dificuldades para reduzir os recursos sem perder precisão ou permitir o aumento de contaminação/defeitos, decidiu desenvolver seu próprio protótipo de máquinas de litografia, aproveitando o conhecimento estabelecido da Philips nos campos da óptica e da mecânica de precisão. No início da década de 1980, a Philips projetou que seria necessário um investimento adicional considerável para concluir seu desenvolvimento, mas essa necessidade surgiu em um momento em que a empresa tentava reduzir despesas. Assim, em 1984, a empresa decidiu transferir suas atividades de máquinas de litografia para uma joint venture com outra empresa holandesa, a ASM International, especializada no fornecimento de equipamentos para a indústria de semicondutores.
Independência e sucesso comercial
No início de 1988, a Philips supostamente considerou encerrar a joint venture completamente, mas, no entanto, havia apoio suficiente no conselho da Philips para continuar as operações, dando à ASML tempo para desenvolver outra máquina de litografia, a PAS 5500. Assim, em 1988, a ASML tornou-se uma empresa independente de capital aberto; nesse mesmo ano, adotou pela primeira vez o nome ASML, que é seu nome oficial e não uma abreviatura. Em 1991, a ASML lançou a PAS 5500, que rapidamente se tornou o primeiro sucesso comercial da empresa. Em contraste com as máquinas de litografia contemporâneas mais precisas da concorrente Nikon, o design modular usado pela ASML significava que suas máquinas podiam ser consertadas rapidamente no local, reduzindo o tempo de inatividade e tornando possível estender a vida útil da máquina. A vantagem da capacidade de manutenção foi apontada como o fator chave que levou a IBM a encomendar a PAS 5500 em vez de suas equivalentes japonesas. A primeira empresa a operar a PAS 5500 foi a Micron Technology, uma das maiores produtoras mundiais de memória e armazenamento de computador; tornou-se a maior cliente da ASML por um tempo. O sucesso da linha PAS 5500 impulsionou a ASML para um período de intensa competição com a Canon e a Nikon, que eram os líderes do mercado de litografia na época.
Década de 2000
Em 2001, a ASML adquiriu a fabricante americana de equipamentos de litografia Silicon Valley Group (SVG) depois que esta enfrentou problemas de liquidez, A aquisição da SVG, que também foi licenciada para resultados de pesquisa em EUV, envolveu a ASML em um acordo para fornecer scanners de 193 nm para a Intel. Em 2002, tornou-se a maior fornecedora de sistemas de fotolitografia. Auxiliada pela adoção da arquitetura TWINSCAN de dois estágios para reduzir o tempo ocioso, as máquinas da ASML podiam produzir mais chips por hora do que qualquer produto concorrente; essa vantagem competitiva era tão forte que a empresa podia cobrar preços mais altos por suas máquinas e ainda assim aumentar sua participação no mercado. No final da década, havia garantido dois terços do mercado global de litografia e se tornado a fornecedora dominante para o crescente mercado de smartphones.
Década de 2010
No início da década de 2010, a ASML aumentou drasticamente seu orçamento anual de P&D, passando de pouco menos de US$ 500 milhões em 2010 para US$ 1 bilhão em 2015. Embora essa despesa fosse necessária para concluir o desenvolvimento de suas máquinas EUV de próxima geração, financiar tais valores não era simples. Para conseguir isso, a ASML lançou um programa de coinvestimento em 2012, sob o qual 23% da empresa foi vendida para seus três maiores clientes: Intel, TSMC e Samsung. O investimento de US$ 4,1 bilhões da Intel na ASML, feito em julho de 2012, deu a ela uma participação de 15% na empresa; este movimento foi declarado para acelerar a transição da Intel de wafers de 300 mm para 450 mm, bem como apoiar o desenvolvimento posterior da litografia EUV. No mesmo mês, a ASML ofereceu outros 10% de suas ações a outras empresas.
Década de 2020
Ao longo do final da década de 2010 e início da década de 2020, a ASML experimentou um período de crescimento constante da receita, passando de US$ 13 bilhões em 2018 para US$ 35 bilhões em 2024; isso tem sido amplamente atribuído às máquinas EUV da empresa, que receberam um aumento significativo na demanda durante este período, impulsionado pela crescente complexidade e requisitos de desempenho da eletrônica moderna. Em julho de 2020, a ASML declarou que havia adquirido a fabricante alemã de vidro óptico Berliner Glas Group, o que ajudará a satisfazer a crescente necessidade de componentes para seus sistemas EUV; na época desta aquisição, os pedidos pendentes da ASML teriam subido para € 10 bilhões.
A ASML produz as máquinas de fotolitografia usadas na produção de chips de computador. Nessas máquinas, os padrões são visualizadas opticamente em um wafer de silício coberto com um filme de material sensível à luz (fotorresistente). Este procedimento é repetido dezenas de vezes em um único wafer. O fotoresistor é então processado para criar os circuitos eletrônicos reais no silício. A imagem óptica com a qual as máquinas da ASML lidam é usada na fabricação de quase todos os circuitos integrados e, em 2011, a ASML detinha 67% das vendas mundiais de máquinas de litografia. A competição da ASML consistia na concorrência com as seguintes empresas: Ultratech, Canon e Nikon, MKS Instruments, Lam Research and Cadence Design Systems.
Litografia de imersão
Desde que a litografia de imersão foi desenvolvida por Burn-Jeng Lin, A ASML cooperou com a Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC). Em 2004, a TSMC iniciou a produção comercial de nós semicondutores de 90 nanômetros usando litografia de imersão ASML. A partir de 2011, seu sistema TWINSCAN NXT:1950i de ponta foi usado para produzir recursos de até 32 nanômetros a até 200 wafers por hora, usando uma lente de imersão em água e um laser de fluoreto de argônio que produz luz em um comprimento de onda de 193 nm. A partir de 2011, uma máquina de litografia média custa 27 milhões de euros.
Litografia DUV
Os dispositivos de litografia ultravioleta profunda (DUV) da ASML usam luz que penetra no espectro UV para imprimir os minúsculos recursos que formam a estrutura do microchip. Em 2009, o centro de pesquisa IMEC na Bélgica produziu as primeiras células funcionais de memória de acesso aleatório CMOS estático de 22 nm do mundo com um protótipo de máquina de litografia EUV. Em 2011, máquinas EUV produzidas em série (não protótipos) foram lançadas.
Litografia EUV
A ASML produziu máquinas de litografia ultravioleta extrema que produzem luz na faixa de comprimento de onda de 13,3–13,7 nm quando um laser de alta energia é focado em gotículas microscópicas de estanho fundido para produzir um plasma, que então emite luz EUV. Em 2021, seu produto mais vendido foi o Twinscan NXE: 3600D, usando EUV em 13,5 nm; custando 144 milhões de euros, ou 50 milhões de euros; transportar a máquina requer 40 contêineres, 20 caminhões e três Boeing 747. O objetivo é fabricar os semicondutores mais avançados abaixo de 5 nm em direção a 2 nm.
Litografia de nanoimpressão
Além da litografia baseada em imersão e litografia EUV, a ASML possui um portfólio substancial de propriedade intelectual que abrange litografia de impressão.
